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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 產品圖片 | 產品名稱 | |||
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GK100桌面微型紫外光刻機 簡單介紹：桌面微型紫外光刻機，專為微米級圖案制作而設計，旨在保障圖形轉移精度，其緊湊的體積將移形換影置于桌面之上，為操作提供了便利與精準。 產品型號：GK100 所在地：武漢市 更新時間：2024-06-13 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
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M-150和P-150韓國Mask Aligner光刻機 簡單介紹：光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉移到半導體或玻璃基板上的光學技術。 產品型號：M-150和P-150 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
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L-100和M-100韓國Mask Aligner光刻機 簡單介紹：光刻是一種將圖案從玻璃光掩模轉移到半導體或玻璃基板上的光學技術。 產品型號：L-100和M-100 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-17 |
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MPEM-1600掩膜曝光光刻機Mask Aligner 簡單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機（掩膜曝光光刻機Mask Aligner ），是的光刻系統，為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。 產品型號：MPEM-1600 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
參考價:面議 詢價留言 | ||
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MEMA-800光刻機Mask Aligner 簡單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機（光刻機Mask Aligner），是的光刻系統，為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。 產品型號：MEMA-800 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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MSMA-1200M光刻機Mask MSMA 簡單介紹：MYCRO*荷蘭光刻機（光刻機Mask MSMA），是的光刻系統，為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。客戶如美國航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦大學等等。 產品型號：MSMA-1200M 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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MMA16光刻機Aligner MMA 簡單介紹：MYCRO*荷蘭（光刻機Aligner MMA16），是的光刻系統，為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。客戶如美國航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學、劍橋大學、斯坦福大學、倫敦 產品型號：MMA16 所在地：北京市 更新時間：2024-05-17 |
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NXQ4000系列NXQ Mask Alignment光刻機 簡單介紹：MYCRO*美國恩科優NXQ Mask Alignment光刻機，是quanqiu*的光刻系統，在光刻領域有超過35年的經驗，quanqiu售出1000多套設備，為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。 產品型號：NXQ4000系列 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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NXQ400-8NXQ掩膜對準曝光機 簡單介紹：MYCRO*美國恩科優N&Q系列光刻機（Mask Aligner)，是*的光刻系統，在光刻領域有超過35年的經驗，售出1000多套設備，為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。 產品型號：NXQ400-8 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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NXQ800-6NXQ光刻機 簡單介紹：MYCRO*美國NXQ光刻機（Mask Aligner），是*的光刻系統，在光刻領域有超過35年的經驗，已售出1000多套設備，為半導體制造和科研領域提供品質優良穩定的全波段紫外光刻機系統，廣泛的應用于半導體光刻工藝制程、微機電MEMS、二極管芯片、發光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領域。 產品型號：NXQ800-6 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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